关于独权和从权的撰写

楼上的，从权没有引用部分啊，另外，两种怎么一样啊？

chengzhang99 wrote:
楼上的，从权没有引用部分啊，另外，两种怎么一样啊？

怎么没有？因为你的第二种写法使本具有上下位的从权变成同级从权，第一种属上下位写法，那么这两种权利要求保护范围一致很正常

这个权利要求应该是这样写:
独权1：一种结构，特征在于：含A与B。
从权2：如1：A为平面。
从权3：如1：A为圆柱曲面。
从权4：如1：B为平面。
从权5：如4：B为矩形。

solo wrote:
假设把引用的部分都补充进去：
第一种写法
独权1：一种结构，特征在于：含A与B。
从权2：一种结构，特征在于：含A与B，A为平面或曲面。
从权3：一种结构，特征在于：含A与B，A为圆柱曲面。
从权4：一种结构，特征在于：含A与B，B为平面或曲面。
从权5：一种结构，特征在于：含A与B，B为矩形。

另一种写法：
独权1：一种结构，特征在于：含A与B。
从权2：一种结构，特征在于：含A与B，A为平面或曲面。
从权3：一种结构，特征在于：含A与B，A为圆柱曲面。
从权4：一种结构，特征在于：含A与B，B为平面或曲面。
从权5：一种结构，特征在于：含A与B，B为矩形。

以第一种方法举例，从权3是对A的进一步限定，在从权3中，尽管引用了从权2，但已经对从权2的特征“A”作了进一步限定，所谓限定，其实就是取舍，相当于舍弃了“平面或曲面”中除了“圆柱曲面”以外的范围，而只取了“一种结构，特征在于：含A与B，A为圆柱曲面”这一个范围。

明白了，solo的意思是说这两种写法本身的保护范围是一致的，实际上没有区别，都可以？？？

这个问题没那么难吧，很简单地说，第一种写法肯定是错的。

实务上讲，

权2中，A已经是平面，那么权3中A怎么可能是圆柱曲面呢，
这就是典型的范围不清楚的例子，审查指南指出过这种错误。

理论上讲，

楼主两种写法，第一种叫做递进式权利要求，第二种叫做并列式权利要求。

这两种写法的好坏，早已有人做过详细阐述，详见

http://zhuanlilaw.blog.sohu.com/88023812.html

按现行专利法，无疑用并列式更好，因为在无效程序中，修改余地更大。
美国的专利基本上都是这样写的。