本报讯（记者 向杰） 记者日前从中国国际贸易促进会获悉：首届全球知识产权保护与创新论坛确定于3月27日至28日在北京召开。
该论坛由中国国际贸易促进会和美国商会共同发起，旨在讨论如何鼓励创新、保护知识产权及促进创造财富。其主要议题包括“创新与知识产权保护的相互作用”、“如何建设创新型社会”、“企业如何加强自主创新”、“如何提高消费者知识产权意识”、“国际组织、商协会及大学如何发挥作用”等。
据悉，该论坛在从筹备之时起就引起了各国工商界的高度关注。截至目前，国际商会、国际知识产权保护论坛、欧洲雇主协会、韩国国际贸易协会、印度工业联合会、俄罗斯工商联合会、巴西全国工业联合会等多家工商组织已经确定出席论坛，并希望借此机会与中国工商界就共同关心的问题交流经验，寻找新的合作机遇。
论坛还将邀请世界知识产权组织、世界贸易组织、世界海关组织的代表，他们将就如何协调各国在世界范围内促进创新、加强知识产权保护工作发表讲话。
论坛组委会预计，将有近500名来自世界各地的企业家、官员、学者参加此次论坛。
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http://www.stdaily.com/gb/stdaily/2007-03/20/content_646574.htm |
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