国内优先权问题

各位实践经验比较丰富的同学们：

      是不是以下情况都存在：
      1）发明人首先申请了发明A，而后研发出A的下位方案A1。在这种情况下，他可以再申请发明，其独权为A，其从权为A1，并要求优先权。即其独权享受优先权，而其从权不享受优先权。
      2）发明人首先申请了发明A1，而后又研发出A1的并列方案A2，A1和A2可上位为A。在这种情况下，他可以再申请发明A，其从权分别为A1和A2，并要求优先权，即其独权不享受优先权，其从权A1享受优先权。

      上述两种情况是否都存在呢？还是我理解有偏差？请各位指教

不懂，帮忙顶下

个人觉得啊，对于第一种情况是可以存在的，部分享受优先权；对于第二种情况，我觉得这样是不可以的，因为之前已经提交了方案A1，方案A1属于下位概念，其肯定构成了在后提交的方案A的抵触申请或现有技术，此时还是建议单独对方案A2提出新申请。

哈哈 再补充下，超出了楼主的原意了，对于第二种情况，如果要申请PCT，要求优先权，如果国内提交的A1未公开，此时提交方案A，A不享受优先权，A1享受优先权，我觉得可以这样做。其实这点就是涉及到PCT申请时，申请文件的修改，切记一点，国内在先申请应处于未公开状态。