大家注意没注意到卷三还有个"黑坑"?

现在回想卷三权5中的\"和/或\"也是个坑,应该删除\"或\"来保证新颖性.不知大家有没有踩上的?

直接把5删了

ppengli wrote:
现在回想卷三权5中的\"和/或\"也是个坑,应该删除\"或\"来保证新颖性.不知大家有没有踩上的?

大家都不会踩上的，那不叫坑
大家都踩上的，那也不叫坑
真正的坑，要一半人踩上，一半人没踩上

这个题目我是删除了或，仅仅保留“和”，这个估计也是错了。刚才看到有其他考生提到应该删除颈枕那部分药垫，因为只有那部分在对比1中被公开了的。
另外，不太记得题目权5是，在头枕和/或颈枕上有药垫，头枕和颈枕上有药垫，
删掉 “ 或颈枕”是权利要求更清楚也有新颖性，因为无效理由没说没有创造性,所以不必考虑创造性的问题，尽管创造性会有争议。
  另外撰写应该是在原来专利基础上的改进专利，那么原来专利的技术特征都要作为从权在新的专利里再写一遍吗？有人这么做的

坑太多了 现在看的我 心惊胆跳的

出题人花几个月研究怎么埋地雷，换作他们出题人自己都会不小心触雷，我们这些只有4个小时考试时间的考生就更不能要求体体面面的走过雷区了，能保住一条命就知足了吧！

我们尽力就可以了