关于布图设计的问题请教

《集成电路布图设计保护条例》第二十三条：下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬：
（三）对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。

我的疑问是：如果是这样，那对其进行登记保护意义何在？其他人仍然可以将相同的布图设计投入商业利用，只要声称是自己独立创作的就可以了！

请明白的同志帮忙释疑，谢谢

声称是自己独立创作不行吧，至少要有证据证明吧

问题就在这里，这种证据在现实中很容易伪造的吧。
专利的保护就不是这样的，人家获得了专利，你独立设计出同样的发明创造用于商业用途，如果落入人家的保护范围，就将面临侵权

x_shuo wrote:
问题就在这里，这种证据在现实中很容易伪造的吧。
专利的保护就不是这样的，人家获得了专利，你独立设计出同样的发明创造用于商业用途，如果落入人家的保护范围，就将面临侵权

你是不了解现在集成电路设计才会这么说的，这种设计是一个长期的复杂的过程，通常还伴随着若干次大致类似但是失败的设计，大量的设计记录和测试结果，伪造也不是那么简单的。
少量的，只有几十个器件的，伪造还好说；上千上万的怎么弄啊。别说伪造了证据，很多人看不都看的（看懂也不是那么容易的），然后连设计者藏在里面的私人记号都一起抄了。

haqianmm wrote:
你是不了解现在集成电路设计才会这么说的，这种设计是一个长期的复杂的过程，通常还伴随着若干次大致类似但是失败的设计，大量的设计记录和测试结果，伪造也不是那么简单的。
少量的，只有几十个器件的，伪造还好说；上千上万的怎么弄啊。别说伪造了证据，很多人看不都看的（看懂也不是那么容易的），然后连设计者藏在里面的私人记号都一起抄了。

也就是说，还得依靠权利人自己另行采取技术手段才有可能保护自己的权益是吧，难道此条法律规定的初衷就有此考虑？