请问一句日文翻译

审查员引用的日本专利，关键一句话见下图，在线等 多谢

大概意思如下，没经过校对

上述结果如图1（c）所示，并非研磨至Si基板101露出为止，可在氮化膜102表面露出的时刻终止研磨。该氮化膜102可例举，在STI形成工序所形成的氮化膜、晶体管形成工序所使用的氮化膜、在形成栅极氧化膜或布线之间的接触时所使用的线膜等。并且，在这些氮化膜之间夹持有NSG等的氮化膜的情形下，也大多形成积层结构。并且，不仅在使用包括氮化膜的积层膜，在布线工序中作为线膜而使用氮化膜的情形下，也可在包含单层或线氮化膜上堆积的氧化膜的积层膜上终止研磨。