化合物同时落在两个专利的权利要求中 是否均过期才能生产销售?

请高人指点：
       最近我遇到一个专利问题，请教了好多人都没能解决，希望能得到论坛里的高人指点，谢谢！
       问题是，化合物（A83543A），同时落在US5496931和US6001981两个专利的权利要求中，而且两个专利均为产品专利，均为同一公司申请，两个专利都得到授权，如果要研发A83543A这种产品，是否必须得到最后到期的那个专利到期后才能生产、销售？希望高人指点并解释这两个专利之间的关系。

Did you check the prosecution history for the two patents? One possible is that a
terminal disclaimer might have been filed for one of these patents.

ddparent ,谢谢您的指点，关于这两个专利，都是同一个公司申请的，我没查询相关起诉方面的信息，我想也不太可能有这方面的信息，如果我的分析有误，希望得到您的指点。还有如果后面专利有一部分权利要求覆盖了在前申请并得到授权的专利的权利要求，在后专利的对应权利要求是否仍然有效？希望指点。
能否告知您的联系方式，想认识认识您，谢谢！我的QQ:343073114,EMAIL:huijuncai@163.com

如果没有中国专利，随时都可以生产，只要不出口到美国！专利的地域性！

fanser2008,就是想出口到美国，所以才想知道美国专利什么时候到期，关于这两个专利，以哪个来推算到期日。

anniehuihui 你好！
我不是化学领域的，只能从法律和专利的角度来说明一下我的理解。
专利是以公开来换取垄断，同样的一个发明创造是不可能被重复授权的。否则就算侥幸授权而重复授权时，也可以被无效掉。而你说的“化合物同时落在两个专利的权利要求中”的情况并没有说的很清楚。因为判断是否产品侵权的关键是你要生产的产品是否具备了权利要求中所有的技术特征。如果是，则侵权，如果仅是具备了部分技术特征，则不侵权。而这两个专利的权利要求是不可能完全一样的。
通常同一个申请人为同一类产品申请多个专利的话，也是不能两个专利具有一样的权利要求（技术特征）的。也就是说，在后申请应该相对于在先申请具有技术进步，换句话说，在后申请应该包含了在先申请所没有的技术特征才行。而对于在后申请的专利，法律保护的仅仅是“在先申请所没有的技术特征”。否则就违背了设定专利法的初衷了。
举例说明，你可能会更明白一点：
在先申请的专利称为专利1，在后申请的专利称为专利2。
专利1具有的技术特征为A+B ，专利2具有的技术特征肯定是A+B+C的形式，其中A+B会写入权利要求的前序部分，（哪怕形式上没写入）。当专利1过期时，你可以生产具有A+B技术特征的产品，但是你不能生产具有A+B+C技术特征的产品。具有A+B+C技术特征的产品必须在专利2过期的之后才能生产。当然了，如果你说的化合物就是具有A+B+C技术特征的产品甚至是A+B+C+D的话，那你想不支付许可费就只能等到专利2失效以后了。
不知道这样解释你是否明白。

化合物领域的专利,有实施例或在说明书中有单独理化性质描述,和仅在权利要求中被通式覆盖是有区别的,具体区别我不记得了,可以找大虾请教下

我还没具体的看那两个专利
我也没搞清楚同时落在两个专利要求是什么意思

如果你说的那个专利，是化合物专利，那就彻底绕不开了，只能等专利失效以后再做
如果是某化合物的制备专利，需要具体研读一下技术上是否能绕开，能绕开就能继续做

不过我看过美国的一些专利，有很多写的不错，难度很大

在两个专利目前在美国均有效，两个专利确实都为产品专利
1）US5496931主要涉及其环上具有两个双键的通式化合物；
2）US6001981的独立权利要求1中前一部分是环上A，B其中之一为单键、双键或环氧连接的情况下的通式化合物，而对于A、B均为双键的情况，化合物仅仅包括US5496931的一部分，相当于中国专利中的选择发明。
因此，二者在独立权利要求中均包括A83543A很正常，其实这是变相的选择发明。如果你要进口到美国，个人认为应该是在最后一个专利到期后，否则，将存在侵权冲突。

anniehuihui wrote:
请高人指点：
       最近我遇到一个专利问题，请教了好多人都没能解决，希望能得到论坛里的高人指点，谢谢！
       问题是，化合物（A83543A），同时落在US5496931和US6001981两个专利的权利要求中，而且两个专利均为产品专利，均为同一公司申请，两个专利都得到授权，如果要研发A83543A这种产品，是否必须得到最后到期的那个专利到期后才能生产、销售？希望高人指点并解释这两个专利之间的关系。

个人觉得前一个到期即可
理由：前一个专利到期，落入公有技术领域，公众可以自由使用。