最近在答复OA时，遇到一个新颖性问题，想请教一下大家的意见。
本发明保护一种测试装置，在隔离区上增加多个伪栅极，克服现有测试装置中存在寄生MOSFET而使测试结果不真实的缺点。独权为：“一种半导体器件测试装置，包括：半导体衬底；在衬底上形成的有源区和隔离区；在有源区上形成的至少一个栅极；和在隔离区上形成的至少一个伪栅极。”
审查员找到一篇破坏新颖性的对比文件，也是在隔离区上增加有多个伪栅极，但它是克服现有化学机械抛光过程中，栅极之间的区域无法理想地平坦化的问题。
从文字内容上看，两者的技术领域、解决的技术问题以及预期效果均不相同。通过与审查员电话交流发现，审查员认为，本发明保护的是一个装置，对比文件公开了这个装置的结构，虽然该装置在对比文件中所解决的技术问题不同，但是对比文件中的结构显然也可以并需要进行测试，本领域技术人员看到这样的结构，就可以想到将这种结构的装置用于测试，形成一种测试装置。并且，审查员认为，指南中并没有规定，本领域技术人员判断两者的技术领域、技术问题以及技术效果一定要是对比文件的文字中有相应的描述。当两者的结构相同时，本领域技术人员必然会知道这种结构的装置可以是一种测试装置。而如果本发明要求保护的是一种方法，则本领域技术人员不会将用于克服平坦化问题的方法用在测试上，因而方法发明具备新颖性。
不知道大家的意见如何？ |
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