上市公司最新授权发明专利监控：京东方Ａ（000725）2014-01-15
京东方科技集团股份有限公司最新发明专利：阵列基板及其制造方法和液晶显示器201010523144.7；一种掩膜板及其制作方法201210546650.7于2014年01月15日获得国家知识产权局授权。阵列基板及其制造方法和液晶显示器201010523144.7的说明书摘要为：
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和液晶显示器。该制造方法包括：形成有源层薄膜和数据线金属薄膜；涂覆光刻胶，采用多色调掩膜板进行曝光显影，形成三个厚度区域的光刻胶图案；刻蚀掉第三厚度区域对应的数据线金属薄膜和有源层薄膜；灰化去除部分厚度的光刻胶；在保留第一厚度区域光刻胶的衬底基板上形成透明导电薄膜；剥离剩余的光刻胶以及剩余光刻胶上的透明导电薄膜；对露出的数据线金属薄膜和部分有源层薄膜进行刻蚀；刻蚀掉除沟道上方之外的剩余有源层薄膜，形成包括数据线、源电极、漏电极、像素电极和带有沟道的有源层的图案。本发明可简化生产工序，降低生产成本。
一种掩膜板及其制作方法201210546650.7的说明书摘要为：
本发明实施例提供了一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，该掩膜板包括多个区域，每个区域为以掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。在本发明实施例中，在接近式曝光机光学系统曝光时，由于掩膜板上离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高，这样就使得这些区域的曝光量较高，可以相对弥补此区域的曝光间距较小对图形尺寸的影响，从而提高曝光出的图形尺寸的均一度。
页:
[1]