上市公司最新授权发明专利监控：京东方A（000725）2013-12-25
京东方科技集团股份有限公司最新发明专利：一种黑矩阵的制作方法、彩色滤光片及显示装置201210082967.X；阵列基板及其制造方法和液晶显示器201110102234.3于2013年12月25日获得国家知识产权局授权。一种黑矩阵的制作方法、彩色滤光片及显示装置201210082967.X的说明书摘要为：
本发明提供一种黑矩阵的制作方法、彩色滤光片及显示装置，属于液晶显示领域。所述制作方法包括：在黑矩阵用光刻胶中加入第一液体，进行超声波振荡形成乳液状光刻胶；在基板上涂覆一层乳液状光刻胶；对涂覆有乳液状光刻胶的基板进行第一热处理，使得乳液状光刻胶中的第一液体被蒸发形成微孔；采用刻画有图形的掩膜板对第一热处理后的基板进行曝光，并经显影和第二热处理后，形成黑矩阵的图形。本发明能够使得黑矩阵薄膜在具有较小的厚度的同时，具有较大的光密度。
阵列基板及其制造方法和液晶显示器201110102234.3的说明书摘要为：
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和液晶显示器，该阵列基板的制造方法包括在衬底基板上形成导电图案和绝缘层的步骤，所述导电图案至少包括栅线、栅电极、有源层、源电极、漏电极、数据线、像素电极和公共电极，所述阵列基板上的公共电极之间通过公共电极连接线连通，其中，所述公共电极连接线与所述像素电极之间还包括阻断块和阻断沟槽，形成所述阻断块和阻断沟槽的步骤具体包括：在形成栅线、公共电极、栅电极和绝缘层的衬底基板上，通过构图工艺形成包括阻断块的图案；在形成上述图案的衬底基板上，通过构图工艺形成包括阻断沟槽的图案。本发明可以解决像素电极的材料残留导致像素电极与公共电极短路的问题，提高良品率。
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